番茄小说 > 都市言情 > 重生1990:大国之芯 > 第193章 院士团队!
    “王院士,您好!”

    此时周晓东笑着向眼前这位两鬓斑白六十来岁的王远洋院士打招呼。

    “你认识我?”

    王远洋有些诧异地说道。

    “当然是认识的,王院士是我们国内微电子新器件、新工艺新、结构电路方面物理基础研究的顶尖科学家,您写的一些理论模型和论文我都仔细研究过,让我们获益匪浅。”

    周晓东笑着说道。

    眼前的王远洋院士在多种晶体管器件结构和工艺技术基础物理研究方面研究了数十年,那是真的技术大佬。

    周晓东随后向旁边一位六十来岁的李贞爱院士打招呼,这位女院士是国内在化合物半导体材料、器件与应用研究技术领域的技术大佬,这位大佬在国内分子束外延设备的研制上很厉害,在八十年代的时候带着技术团队硬是搞出了这种设备出来,现在这种设备国外已经是取消了禁运。

    在这里周晓东还见到了金希哲院士,这位是研制超级计算机方面的技术大佬。

    “黄院士,您好!”

    周晓东此时向眼前这位干瘦的黄秋燕院士打招呼,眼中充满了惊喜。

    在前世的时候,周晓东就是师从黄秋燕院士,此时见到她,心中满是激动之情。

    一众院士见到周晓东准确无误地认出他们,心中都是颇为讶异。

    “小周呀,我听说你在芯片设计和芯片制造方面是技术天才,也看过你设计的芯片原理架构图以及指令集专利,发现你在矢量阵列算法模型上有非常重大的创新,这方面的研究国外都没有,你在数学如此天才,为何之前没有发现你这样的天才?”

    黄秋燕开口问道。

    “我是进入大学后才发现自己才发现自己这方面的天赋,自己研究了这方面的数学模型,加上自己对芯片设计非常感兴趣,于是把这方面的算法导入了芯片硬件电路里面,通过各种验证测试,证明我的这些算法模型在处理高精度和复杂运算方面还是很理想的。”

    周晓东笑着说道。

    “小周,你的这种算法模型能不能给计算机研究所这边借鉴研究呀?”

    黄秋燕此时看着周晓东问道:“或者你抽个时间来计算机研究所这边给我的这些学生讲一讲这套数学模型理论。”

    “我倒是想跟黄院士您探讨一下芯片设计开发算法上内容,不过讲课就算了吧,你的学生都是一些博士,我怕我太年轻,去了之后被您的学生赶出来。”

    “……”

    黄秋燕笑着道:“我仔细地看了你们公司申请的非常多技术专利,发现你在这些技术专利背后用到的非常多算法上有着巨大的创新,我确信这些算法都是你写出来的,简直是数学奇才,如果你来中科院这边,一定能在计算机科学与工程方面取得极高的成就……”

    周晓东笑了笑,“黄院士,现在有几万人的员工跟着我吃饭,我已经没办法亲自去搞理论研究了。”

    黄秋燕眼中露出了遗憾的神情。

    此时一边的中科院院长童金亮开口了:“周董,你提出国内重点发展六英寸和八英寸晶圆生产线的半导体设备,为什么不重点发展十二英寸晶圆生产线设备呢?”

    此时几位首长都看向了周晓东。

    “从理论上来说,十二英寸晶圆的尺寸比八英寸的面积大了两倍,正常水平的话能切割出五百多片芯片晶粒,八英寸的只能切割两百六十来片的样子,不过十二英寸晶圆因为晶圆尺寸大同样让加工工艺的难度大幅提升,这对加工设备性能和工艺技术要求非常高。”

    周晓东开口说道:“目前国内掌握零点二五微米制程工艺的技术人员数量不过几十个人,现在这些技术人员全都在我的公司里面,我们实验生产线用的设备都是八英寸晶圆生产线设备,目前国内既买不来十二英寸晶圆生产线设备,掌握这方面的技术人员也没有。”

    “就在去年的时候,国内掌握的只是六英寸晶圆生产线设备工艺技术,最高的制程工艺只有零点八微米,通过我们各方面的努力,建成了这条八英寸的晶圆实验生产线,总算是一口气追赶了近三代制程工艺,好不容易培养出了几十个掌握这种制程工艺技术的技术人员。”

    周晓东开口说道:“如果国内冒然研制十二英寸晶圆生产线设备,大家对具体的工艺技术参数需求都不清楚,研制出来只能是停留在实验室阶段,是没办法商用化的。”

    “现在国内发展半导体设备产业是没办法冒进的,只能是有多大的锅下多少米,”周晓东开口说道:“目前来说八英寸晶圆生产线设备放在国际上都不算落后,采购十二寸晶圆生产线设备是这些米国这些不差钱的芯片大厂和这些大型芯片代工企业,他们财大气粗,能够把自己的芯片器件卖到全世界去,用得起这些设备,我们只能另想办法。”

    周晓东开口说道:“这些海外芯片大厂和下游品牌产商能够满世界捞钱,我们国内没这个条件,要想发展半导体设备产业只能从六英寸和八英寸半导体设备上着手。”

    “现在我们通过各种技术攻关后已经可以说已经解决了光刻机设备关键系统之一的工件台装置设计研发制造的技术难题,研制出来的这种步进扫描式工件台和掩膜台实现了高速高精度的同步运动,误差控制在了五纳米以下。”

    周晓东开口说道:“目前我们自主研制的光刻机已经在实验生产线上开始测试试用了,已经完成了零点二五微米芯片光刻工艺的流片测试,另外我们自己在研制出来用在在晶圆光刻胶上面的防水涂层材料也是完成了测试,各方面的性能指标都达标了。”

    “通过目前我们自己得到的各种实验数据,我们对这套八英寸光刻机设备在后年实现量产还是有信心的。”

    周晓东开口说道:“不过要想实现量产和制程工艺的持续推进,国内还不能提供大口径光学镜片的超高精密抛光加工设备以及抛光材料。”